摘要
维持 🟢——ITC 对 SK Hynix/Kioxia 专利调查不直接影响 CapEx 纪律判定,Samsung/SK Hynix 中国投资方向(成熟制程)不构成前沿产能扩张,MU 季度 CapEx $6.4B(FY2026 指引 $25B 内)、SNDK CapEx $39M(极低),管理层控产基调维持,Greenfield 公告为零;供给纪律完好,置信度 7/10。
推理链
- ITC 对 SK Hynix/Kioxia 专利调查(news-brief 2026-03-28):专利调查可能限制竞对在美销售,但不影响其产能扩张决策和 CapEx 纪律。(来源:news-brief/2026-03-28)
- Samsung/SK Hynix 中国投资(ts 2026-03-26):韩国双雄加码中国工厂投资,但主要是成熟制程 DRAM(非前沿),不改变行业供给纪律格局。(来源:ts_tool summary)
- MU CapEx $6.4B(Q2 FY2026):FY2026 指引 $25B,执行率正常。台湾 Powerchip 收购($1.8B)为存量产能收购非新建。管理层控产基调(供给分配优先)维持 3 个月。(来源:ts_tool summary)
- SNDK CapEx $39M:近乎零 CapEx,极度保守。与 Kioxia 合资产能由 Kioxia 主导投入。(来源:ts_tool summary)
- Greenfield 公告为零:无任何新建晶圆厂公告。供给端仍维持纪律。(来源:ts_tool summary)
- 结论:供给纪律完好,管理层控产基调未变,无 Greenfield 扩产。维持 🟢 7/10。
数据源
- news-brief/2026-03-28(ITC 调查)
- ts_tool summary(MU/SNDK CapEx、Greenfield 状态、管理层基调)